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电子束平版印刷术是一种分辨率小于一毫米的蚀刻半导体的方法。这种技术的缺点是成本高昂、程序缓慢、必须操作于真空内、还有，电子束在固体内很快就会散开，很难维持聚焦。后这缺点限制住分辨率不能小于10nm。因此，电子束平版印刷术主要是用来制备少数量特别的集成电路。

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当这些粒子通过磁场时，它们会同步辐射。由于辐射的强度与自旋有关，因而造成了电子束的偏振。这过程称为索克洛夫-特诺夫效应。很多实验都需要使用偏振的电子束为粒子源。同步辐射也可以用来降低电子束温度

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低能电子衍射技术（LEED）照射准直电子束于晶体物质，然后根据观测到的衍射图案，来推断物质结构。这技术所使用的电子能量通常在20～200eV之间。反射高能电子衍射（RHEED)）技术以低角度照射准直电子束于晶体物质，然后搜集反射图案